什么是真空鍍膜？都有哪些鍍膜工藝？
我們都知道，濾光片是一種能夠選擇性透過(guò)或吸收特定波長(zhǎng)光線的器件，在濾光片的制備中，經(jīng)常會(huì)聽(tīng)到真空鍍膜的字眼，那么什么是真空鍍膜呢？下面我們將為大家做一個(gè)簡(jiǎn)單的理解，同時(shí)介紹幾個(gè)濾光片薄膜制備的幾個(gè)工藝！
真空鍍膜是制備濾光片最常用的方法之一，其原理是將待鍍基片（如玻璃、石英等）置于真空腔內(nèi)，通過(guò)加熱、電子束或離子轟擊等物理或化學(xué)方式使鍍膜材料蒸發(fā)或?yàn)R射，并在基片表面沉積成薄膜，通過(guò)沉積多層不同折射率的薄膜，可以精確控制濾光片的透射和反射特性，形成具有特定光學(xué)性能的薄膜。鍍膜工藝的目的是改變?yōu)V光片對(duì)不同波長(zhǎng)光的透過(guò)、反射和吸收特性，從而實(shí)現(xiàn)濾光的功能。
膜層材料和光學(xué)性能
常用的濾光片膜層材料有：
高折射率材料: 二氧化硅、氧化鈦、氧化鋯等，具有較高的折射率，用于構(gòu)建高反射膜。
低折射率材料: 氟化鎂、氟化鈣等，具有較低的折射率，用于構(gòu)建增透膜。
金屬材料: 鋁、銀、金等，具有高反射率，常用于制作反射鏡。
不同材料的光學(xué)性能（折射率、吸收系數(shù)等）決定了膜系的特性。例如，高折射率材料和低折射率材料交替疊加可以形成多層膜，實(shí)現(xiàn)高反射率或高透射率。
真空鍍膜的優(yōu)勢(shì)
防止污染： 真空環(huán)境可以有效減少空氣中的雜質(zhì)對(duì)膜層的污染，保證膜層的純度和質(zhì)量。
提高沉積速率： 真空環(huán)境下，蒸發(fā)或?yàn)R射的原子或分子可以自由地向各個(gè)方向運(yùn)動(dòng)，從而提高沉積速率。
改善膜層質(zhì)量： 真空環(huán)境下，膜層生長(zhǎng)更加均勻，致密，附著力更好。
（電子束蒸發(fā)鍍膜）
常見(jiàn)的真空鍍膜工藝有哪些？
常見(jiàn)的真空鍍膜工藝包括電子束蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子輔助鍍膜等，同時(shí)還包括一些真空鍍膜其他變種如磁控濺射、反應(yīng)濺射、離子束輔助沉積（IBAD）等！
1.電子束蒸發(fā)鍍膜：利用電子束加熱蒸發(fā)源，使鍍膜材料氣化并沉積在濾光片基底上。這種方法能夠精確控制蒸發(fā)速率和膜厚，使其具有高蒸發(fā)速率、可蒸發(fā)高熔點(diǎn)材料等優(yōu)點(diǎn)，但對(duì)設(shè)備要求較高。
2.濺射鍍膜：通過(guò)高能粒子撞擊靶材，使靶材原子濺射出來(lái)并沉積在基底上。濺射鍍膜可以制備出均勻性較好、附著力強(qiáng)的膜層，鍍出來(lái)的膜層均勻性好、附著力強(qiáng)，適用于各種材料的鍍膜，但沉積速率相對(duì)較慢。
3.離子輔助鍍膜：在鍍膜過(guò)程中引入離子束，對(duì)正在沉積的膜層進(jìn)行轟擊和改性，從而改善膜層的結(jié)構(gòu)和性能，如提高膜層的致密性和硬度，但工藝相對(duì)復(fù)雜。
（化學(xué)氣相沉積CVD）
4.化學(xué)氣相沉積（CVD）：在高真空或低壓環(huán)境下，將含有鍍膜元素的氣態(tài)化合物引入反應(yīng)腔，在基片表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，生成薄膜，適用于制備高純度、大面積的薄膜，膜層均勻性好。
（物理氣相沉積PVD）
5.物理氣相沉積（PVD）：將固態(tài)或液態(tài)物質(zhì)在真空或低壓環(huán)境下轉(zhuǎn)化為氣態(tài)原子或分子，然后沉積在基片上形成薄膜，覆蓋真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍等多種方法，可以根據(jù)不同的需求選擇合適的工藝。
（原子層沉積ALD）
6.原子層沉積（ALD）：由化學(xué)氣相沉積衍生而來(lái)，它通過(guò)利用不同氣相前驅(qū)體脈沖交替通入反應(yīng)腔室, 周期性間歇式地在表面沉積材料，通過(guò)交替引入兩種或多種反應(yīng)前驅(qū)體，在基片表面逐層生長(zhǎng)薄膜，可以精確控制膜厚，制備出具有原子級(jí)平整度的薄膜，缺點(diǎn)是沉積速率較慢，成本較高。
7.磁控濺射：在真空腔內(nèi)，通過(guò)施加直流或射頻電壓在靶材和基片之間產(chǎn)生電場(chǎng)，使惰性氣體電離形成等離子體。磁場(chǎng)的作用是將電子限制在靶材附近，增加電子與氣體原子的碰撞幾率，從而產(chǎn)生更多的離子。這些離子轟擊靶材，使靶材原子濺射出來(lái)，并沉積在基片上形成薄膜，提高濺射速率和膜層均勻性。
8.反應(yīng)濺射：與磁控濺射類似，但增加了反應(yīng)氣體。濺射出來(lái)的靶材原子與反應(yīng)氣體原子在基片表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成化合物薄膜，如氧化物、氮化物、碳化物等。
9.離子束輔助沉積（IBAD）： IBAD是一種綜合了離子束技術(shù)和物理氣相沉積（PVD）技術(shù)的鍍膜方法，在PVD過(guò)程中，同時(shí)引入高能離子束。離子束轟擊基底表面，使其活化，有利于膜層的成核和生長(zhǎng)；離子束還對(duì)生長(zhǎng)中的膜層進(jìn)行轟擊，可以改善膜層的致密性、平整度和應(yīng)力，改善膜層的結(jié)構(gòu)和性能。
多層膜沉積作為真空鍍膜的一種常見(jiàn)應(yīng)用，一般為了實(shí)現(xiàn)更復(fù)雜的濾光效果，通常需要沉積多層不同折射率的薄膜。通過(guò)精確控制每一層的厚度和折射率，可以實(shí)現(xiàn)特定的光學(xué)透過(guò)曲線，設(shè)計(jì)出各種各樣的光學(xué)濾光片，例如帶通濾光片、截止濾光片、中性密度濾光片等。例如，在制備窄帶濾光片時(shí)，可能需要沉積數(shù)十層甚至上百層的薄膜，每層的厚度都需要精確控制在納米級(jí)別，這就對(duì)真空鍍膜的工藝精度和穩(wěn)定性提出了極高的要求。
鍍膜效果的評(píng)定
鍍膜效果的好壞可以通過(guò)以下指標(biāo)進(jìn)行評(píng)定：
透射率: 測(cè)量濾光片在不同波長(zhǎng)下的透射率，與理論設(shè)計(jì)值進(jìn)行比較。
反射率: 測(cè)量濾光片的反射率，評(píng)估其對(duì)光的反射能力。
波長(zhǎng)選擇性: 測(cè)量濾光片的半峰全寬（FWHM）、峰值透過(guò)率等參數(shù)，評(píng)價(jià)其波長(zhǎng)選擇性。
角度特性: 測(cè)量濾光片在不同入射角下的透射率和反射率，評(píng)估其角度特性。
耐久性: 評(píng)估濾光片在環(huán)境因素（如溫度、濕度、機(jī)械應(yīng)力）下的穩(wěn)定性。
真空鍍膜工藝的影響因素
真空度: 真空度越高，膜層純度越高，附著力越好。
沉積速率: 沉積速率過(guò)快或過(guò)慢都會(huì)影響膜層的均勻性。
基底溫度: 基底溫度影響膜層的微觀結(jié)構(gòu)和應(yīng)力。
膜層厚度控制: 精確控制膜層厚度是獲得理想光學(xué)性能的關(guān)鍵。
總的來(lái)說(shuō)，濾光片的真空鍍膜是一門(mén)精密的技術(shù)，涉及到材料科學(xué)、光學(xué)、物理等多個(gè)學(xué)科。通過(guò)合理選擇膜層材料、優(yōu)化膜系設(shè)計(jì)、控制鍍膜工藝參數(shù)，可以制備出具有各種光學(xué)性能的濾光片，滿足不同應(yīng)用的需求，需要注意的是，濾光片的性能不僅取決于鍍膜工藝，還與基底材料、鍍膜設(shè)備、工藝參數(shù)等因素密切相關(guān)。